關(guān)于真空鍍膜技術(shù)，目前常采用的方法有兩種，物理氣相沉積法和化學(xué)氣相沉積法，即PVD和CVD。那么在實(shí)際加工中如何選用合理的 真空鍍膜技術(shù)呢？森豐小編今天給大家介紹一下。

PVD的沉積溫度一般在600度以下，涂層厚度一般在0.5~5um,CVD的沉積溫度在900~1000°C，涂層厚度在5~10um，兩者設(shè)備簡單，涂層均勻。PVD真空涂層技術(shù)未超過高速鋼本身的回火溫度，高速鋼刀具一般采用PVD方法，而硬質(zhì)合金大多數(shù)采用CVD真空涂層技術(shù)。硬質(zhì)合金用CVD真空涂層技術(shù)時，由于其沉積溫度高，涂層與基材之間容易形成一層脆性的脫碳層，導(dǎo)致刀片脆性破裂。近年來，隨著科技的發(fā)展進(jìn)步，真空涂層技術(shù)的提高，硬質(zhì)合金也采用PVD真空涂層技術(shù)，國外還有PVD和CVD相結(jié)合的制造工藝，并且開發(fā)出了復(fù)合涂層工藝，我們簡稱PACVD等離子體化學(xué)氣相沉積法，即利用等離子體來促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，可以把涂層的溫度降至400度以下，目前涂層溫度可降至180~240度，使硬質(zhì)合金與基材之間不會產(chǎn)生擴(kuò)散相變或交換反應(yīng)，可以保持基材原有的韌性。

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