真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的差別？

真空鍍膜

真空鍍膜關(guān)鍵利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子碰撞濺射靶材(target)表面,　濺射靶材的分子被彈出來而沉積在基材表面產(chǎn)生薄膜。濺鍍薄膜的特性、勻稱度都比蒸鍍薄膜來的好,可是鍍膜速率卻比蒸鍍慢許多。

新型的濺鍍?cè)O(shè)備基本上都應(yīng)用磁鐵硼磁鐵將電子成螺旋形運(yùn)動(dòng)以加快濺射靶材周邊的氬氣離子化, 導(dǎo)致靶與氬氣離子間的碰撞概率提升,提升濺鍍速度。一般金屬材料鍍膜大多數(shù)選用直流電濺鍍,而不導(dǎo)電性的陶瓷原材料則應(yīng)用RF交流濺鍍,基本上的原理是在運(yùn)行中利用輝光放電。

光學(xué)鍍膜

不論是無機(jī)材料或是有機(jī)材料做成的眼鏡鏡片，在日常的應(yīng)用中，因?yàn)榕c塵土或沙礫(氧化硅)的磨擦都會(huì)導(dǎo)致眼鏡片損壞，在鏡片表面造成劃痕。與玻璃鏡片對(duì)比，有機(jī)材料做成的硬性度較為低，更易造成劃痕。根據(jù)光學(xué)顯微鏡，我們可以觀察到眼鏡片表面的劃痕主要有二種，一是因?yàn)樯车[造成的劃痕，淺而細(xì)微，戴鏡者不易發(fā)覺;另一種是由較大沙礫造成的劃痕，深且附近不光滑，處在核心地區(qū)則會(huì)危害眼睛視力。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜差別。

1.真空鍍膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，電鍍工藝出現(xiàn)的薄厚大約是3~5μm。一般狀況真空鍍膜的薄厚是在機(jī)器設(shè)備上檢測(cè)不出來;

2.電子光學(xué)鍍膜的膜厚檢測(cè)可以在鍍膜機(jī)的中間頂部裝置膜厚測(cè)試儀就可以。

最早的是光控檢測(cè)，如今一般用晶控(晶振片)應(yīng)用的是晶振電路片振動(dòng)的頻率來測(cè)試鍍膜的薄厚。不一樣膜層的厚度不一樣。