廣東PVD鍍膜廠中PVD鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本概念可分成三個加工工藝流程：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的揮發(fā)，提升或被磁控濺射進(jìn)而產(chǎn)生氣化源；

（2）鍍料粒子（原子，分子或離子）的轉(zhuǎn)移：由氣化源供出原子、分子或離子通過碰撞，造成多種多樣反應(yīng)；

（3）鍍料粒子在基材片表面的堆積

薄膜的產(chǎn)生次序為：具備一定能量的原子被吸咐→產(chǎn)生小原子團→臨界核→小島→大島→島結(jié)合→溝道薄膜→連續(xù)薄膜。因而薄膜的產(chǎn)生全過程可分成四個環(huán)節(jié)；臨界值核的產(chǎn)生；島的產(chǎn)生，成長與融合；溝道薄膜的生成和持續(xù)膜的產(chǎn)生。

廣東PVD鍍膜廠中PVD鍍膜的生產(chǎn)流程

PVD鍍膜的生產(chǎn)流程先后一般為：前處理及化學(xué)清洗（表面拋光處理噴砂處理，防銹處理去油去空氣氧化層）→工件在真空中烤制加溫→氬離子輝光清理→金屬材料離子轟擊→電鍍金屬銜接層→表層的鍍膜（進(jìn)入反應(yīng)氣體）→后處理（爐內(nèi)鈍化或出爐后鈍化處理去應(yīng)力或防止變色，過UV做防指膜解決等）。

以上就是廣東PVD鍍膜廠中的物理過程和生產(chǎn)流程，如有需求，歡迎咨詢森豐PVD鍍膜廠：18018743855   0755-27865425