磁控濺射PVD鍍膜在真空爐內(nèi)， Ar離子輝光放電及清洗， 由于宇宙射線的作用，在空氣中任何時候都存在少量游離的離子，有帶正電荷也有帶負電荷的，當(dāng)在較高真空狀態(tài)下幾帕----幾十帕，如果這些游離的離子被施加一定的電壓，那么帶負電荷的電子受到施加電壓的作用后開始加速運動，如果施加的電壓足夠大，這些電子將高速碰撞真空室內(nèi)的中性氣體Ar，并使Ar電離成Ar+，同時Ar釋放出一個電子。Ar釋放出的這個電子又受到電場的加速作用后又開始去碰撞Ar，使Ar又電離出Ar+。這樣就可產(chǎn)生源源不斷的電子以及源源不斷的Ar+。由于貨品如表帶，表殼等帶負偏壓，所以貨品就吸引Ar+，Ar+就在電場中被加速后去碰撞貨品。

磁控濺射PVD鍍膜原理， 氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑變長，在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，最終沉積被陽極吸收。

磁控濺射PVD鍍膜具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點。高速是指沉積速率快；低溫和低損傷是指溫度低、對膜層的損傷小。沉積粒子動能大，制備的薄膜致密度好，沉積速率高。